(4)HSiCl3+H2
Si +3HCl(2分)
注意:
第(1)小题一空两个得分点:“增大反应物接触面积”,“提高反应速率”或“提高原料的利用率”各1分;第二空反应方程式若未标条件(高温)或气体符号共扣1分;
第(4)小题条件(高温)和多写HCl的气体符号共扣1分
- 答案
(4)HSiCl3+H2
Si +3HCl(2分)
注意:
第(1)小题一空两个得分点:“增大反应物接触面积”,“提高反应速率”或“提高原料的利用率”各1分;第二空反应方程式若未标条件(高温)或气体符号共扣1分;
第(4)小题条件(高温)和多写HCl的气体符号共扣1分