12、图甲中bacd为导体作成的框架，其平面与水平面成θ角，质量为m的导体棒PQ与ab、cd接触良好，回路的电阻为R，整个装置放于垂直于框架平面的变化的磁场中，磁感应强度的变化如图乙，PQ始终静止，在0―ts内，PQ受到的摩擦力的变化情况可能是

A、f一直增大                       B、f一直减小

C、f先减小后增大                   D、f先增大后减小